新毅东（北京）科技有限公司

产品中心

Product Center

光刻设备

涂胶显影设备

高端客制化湿法设备

备品备件

Nikon G线光刻机

Nikon G线光刻机利用436nm光源进行曝光，主要用于半导体制造过程中的图形转移。广泛应用于化合物半导体、MEMS（微电机系统）、LED（发光二极管）等生产领域。支持多种晶圆尺寸的生产，包括但不限于2寸、4寸、6寸晶圆生产线。这些设备能够满足不同规模生产的需求，为半导体制造商提供灵活的解决方案。

Nikon I线光刻机

Nikon I线光刻机采用365nm波长的光源，是半导体制造中用于精细图形转移的关键设备，主要机型包括NSR系列（步进投影式）与SF系列（扫描式），支持多种晶圆尺寸，在2寸、4寸、6寸、8寸及12寸晶圆片的生产上均有着广泛的应用，这使得它们可以服务于不同规模的半导体生产线，满足多样化的生产需求。

Nikon KrF光刻机

Nikon KrF光刻机使用248nm波长的KrF准分子激光作为曝光光源，适用于更精细的半导体制程，广泛应用于制造高性能的半导体器件，包括微处理器、动态随机存取存储器（DRAM）、以及复杂的逻辑和混合信号芯片等。这些光刻机是实现高精度半导体器件制造的关键设备，在4寸、6寸、8寸和12寸晶圆生产线中发挥着重要作用，为半导体制造商提供了灵活性和高效的生产能力。

Nikon ArF光刻机

Nikon ArF光刻机利用193nm波长的ArF准分子激光进行曝光，适用于先进的半导体制造工艺，能够支持当前主流的12寸晶圆生产，同时也适应8寸晶圆的生产，可实现更小的特征尺寸，对于提升芯片性能和集成度起到了至关重要的作用，为半导体生产商提供了高精度与高生产效率的解决方案。

Canon I线光刻机

Canon I线光刻机使用365nm波长的光源进行曝光，是实现微米级半导体器件制造的关键设备，具备更为优异的对准精度，尤其在4寸、6寸、8寸及12寸晶圆片的生产上有着广泛的应用。

Canon KrF光刻机

Canon KrF光刻机使用248nm波长的KrF准分子激光作为曝光光源，适用于更精细的半导体制程，广泛应用于制造高性能的半导体器件，具备更为优异的对准精度，在4寸、6寸、8寸和12寸晶圆生产线中发挥着重要作用，为半导体制造商提供了灵活性和高效的生产能力。

BNE自主研发的涂胶显影设备TC2000，适用于I-line、KrF、ArF及PI等工艺。设备配置了高精度、高稳定性的传送模组与工艺模组，以确保稳定的工艺结果。该设备占地面积小、可靠性高、易于维护，可广泛应用于IC、先进封装、MEMS、功率器件、射频集成等领域，设备还可根据需求进行功能定制化开发，以满足客户对于不同产品的需求。

BNE自主研发的涂胶显影设备TC1500，适用于G-line、I-line、PI等工艺，设备搭载高精度高稳定性的工艺模组，以确保稳定的工艺结果。该设备占地面积小、可靠性高、易于维护，可广泛应用于MEMS、功率器件、射频集成、光通讯、LED等领域。

BNE自主研发涂胶显影设备TC1000-A，适用于G-line、I-line等工艺，设备搭载高精度高稳定性的工艺模组，以确保稳定的工艺结果，可广泛应用于6寸及以下功率器件、LED等应用领域。

BNE自主研发涂胶显影设备TC1000-B，适用于8寸及以下先进封装、MEMS和LED等应用领域，设备搭载高性价比高稳定性的工艺模组，以确保稳定的工艺结果。该设备占地面积小、可靠性高、易于维护，满足多种类晶圆制程需求。

BNE自主研发的涂胶显影设备TC1000-C，适用于12寸及以下先进封装、功率器件等应用领域，设备搭载高性价比高稳定性的工艺模组，以确保稳定的工艺结果。该设备占地面积小、可靠性高、易于维护，满足多种类晶圆制程需求。

BNE TC1000-SC喷胶机

BNE自主研发的涂胶显影设备TC1000-SC喷胶机，适应于深孔喷胶TSV、高深宽比台阶喷胶，提供高精度高性能的工艺模组，以确保稳定的工艺结果。该设备占地面积小、可靠性高、易于维护，广泛应用于12寸及以下先进封装、MEMS等领域。

TEL中古涂胶显影设备

BNE专业承接TEL多系列涂胶显影设备的全方位服务，涵盖拆机、安装、翻新、软硬件改造、Parts替代开发及维护保养。

全自动RCA单片XS3000清洗设备

全自动单片式清洗设备XS3000系列，应用于RCA清洗工艺。设备可根据客户不同工艺需求进行客制化。

全自动槽式清洗设备XW2000

全自动槽式清洗设备XW2000系列，可应用于RCA清洗工艺、湿法去胶工艺、介质层湿法刻蚀工艺、金属层湿法刻蚀工艺、炉管前清洗工艺以及其它特殊工艺清洗需求。设备采用模块化设计，可根据客户不同化学药液及工艺需求进行定制化设计。

全自动RCA槽式清洗设备XW2000

全自动槽式清洗设备XW2000系列，可应用于RCA清洗工艺。设备采用模块化设计，可根据客户不同工艺需求进行客制化。

单片式清洗设备XS3000系列

支援短秒数制程配方，最佳化产出，减少化学品用量
制程腔体具备高压清洗、热水清洗及双面清洗功能，最佳化洗净能力
优化制程腔体流场设计，可搭配二流体或MEGASONIC，提升晶圆洁净度，优化颗粒清除能力
定制化机械手臂，提升空间利用率，缩小机台占地面积
可搭载浓度监控系统，透过药水浓度监控，提升制程稳定度
配置静电防护机制，避免静电带来制程缺陷
针对高翘曲晶圆特殊设计，有效解决晶圆传送及夹持问题
标准MES功能，全面支持SECS / GEN通讯，并可实现系统联动及数据上传功能

单片式蚀刻清洗设备XS3000系列

可搭载浓度监控系统，透过药水浓度监控，提升制程稳定度
配置多层回收环及药水回收机制，可支持连续制程需求，同时减少药液用量，降低生产成本
配置静电防护机制，避免静电带来制程缺陷
针对高翘曲晶圆特殊设计，有效解决晶圆传送及夹持问题
可针对药水浓稠、气泡、残渣等特性做特殊设计，解决制程问题
优化制程腔体流场设计，可搭配二流体或MEGASONIC，提升晶圆洁净度
可客制化混酸、预热及供酸设备，支持多样化制程需求
标准MES功能，全面支持SECS / GEN通讯，并可实现系统联动及数据上传功能

全自动单片去胶 / 剥离清洗机XS3000系列

配置药水回收机制，可支援连续支撑需求，同时减少药液用量，降低生产成本
配置经典防护机制，避免静电带来制程缺陷
针对高翘曲晶圆特殊设计，有效解决晶圆传送及夹持问题
可针对药水浓稠、起泡、残渣等特性做特殊设计，解决制程问题
优化制程腔体流场设计，可搭配二流体或MEGASONIC，提升晶圆洁净度
标准MES功能，全面支持SECS / GEN通讯，并可实现系统联动及数据上传功能

Nikon、Canon、TEL设备各类备品备件供应
工厂设有300㎡的备品备件仓库，保障备品备件的及时供应

国产替代及加工件类

各种ARM、chuck、pre2等加工件

二手备件类

控制基板、马达、控制器、电源等

新品备件类

镜头、马达、硬盘、主机等

技术服务

Technology Services

BNE提供光刻机专业翻新服务，经过严格检测、精密维修及性能升级，确保翻新设备达到卓越作业水平，以经济高效的方式为半导体制造商赋能。.

根据产品工艺和衬底材质需求，精准改造WL、RL单元及OF寻边、Stage等关键部分，满足生产所需。.

光刻镜头服务

光刻镜头服务

专业维护光刻设备照明系与成像系镜头，服务内容涵盖清洁、调整、镜片更换及拆装，确保镜头性能稳定、成像清晰，保证生产精度。.

移机团队经验丰富，工具专业，流程完善，确保设备安全移动。.

关于新毅东

About Us

新毅东（北京）科技有限公司（以下简称“BNE”），成立于2014年3月，是一家专注于半导体生产线设备研发的高新技术企业。 BNE核心业务围绕黄光设备技术服务与自主研发，同时积极引进海外先进技术，致力于关键部件国产化替代，为集成电路、化合物半导体、MEMS及LED等领域的客户提供设备制程整合与个性化解决方案。目前，BNE已与半导体领域200多家客户建立稳固合作关系，并组建了经验丰富的技术团队。为强化服务水平，提升响应速度，BNE在北京、上海、武汉、...

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专注领域10余年

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