BNE TC2000

• BNE自主研发的涂胶显影设备TC2000，适用于I-line、KrF、ArF及PI等工艺。设备配置了高精度、高稳定性的传送模组与工艺模组，以确保稳定的工艺结果。该设备占地面积小、可靠性高、易于维护，可广泛应用于IC、先进封装、MEMS、功率器件、射频集成等领域，设备还可根据需求进行功能定制化开发，以满足客户对于不同产品的需求。

BNE TC1500

• BNE自主研发的涂胶显影设备TC1500，适用于G-line、I-line、PI等工艺，设备搭载高精度高稳定性的工艺模组，以确保稳定的工艺结果。该设备占地面积小、可靠性高、易于维护，可广泛应用于MEMS、功率器件、射频集成、光通讯、LED等领域。

BNE TC1000-A

• BNE自主研发涂胶显影设备TC1000-A，适用于G-line、I-line等工艺，设备搭载高精度高稳定性的工艺模组，以确保稳定的工艺结果，可广泛应用于6寸及以下功率器件、LED等应用领域。

BNE TC1000-B

• BNE自主研发涂胶显影设备TC1000-B，适用于8寸及以下先进封装、MEMS和LED等应用领域，设备搭载高性价比高稳定性的工艺模组，以确保稳定的工艺结果。该设备占地面积小、可靠性高、易于维护，满足多种类晶圆制程需求。

BNE TC1000-C

• BNE自主研发的涂胶显影设备TC1000-C，适用于12寸及以下先进封装、功率器件等应用领域，设备搭载高性价比高稳定性的工艺模组，以确保稳定的工艺结果。该设备占地面积小、可靠性高、易于维护，满足多种类晶圆制程需求。

BNE TC1000-SC喷胶机

• BNE自主研发的涂胶显影设备TC1000-SC喷胶机，适应于深孔喷胶TSV、高深宽比台阶喷胶，提供高精度高性能的工艺模组，以确保稳定的工艺结果。该设备占地面积小、可靠性高、易于维护，广泛应用于12寸及以下先进封装、MEMS等领域。

TEL中古涂胶显影设备

• BNE专业承接TEL多系列涂胶显影设备的全方位服务，涵盖拆机、安装、翻新、软硬件改造、Parts替代开发及维护保养。